|
|
Properties study of periodic gratings prepared by electron-beam lithography
Krátký, Stanislav ; Opletal, Petr (referee) ; Matějka, Milan (advisor)
This study examines the process of the relief periodic structures creation by way of electron beam lithography. It describes how to design these structures by means of a computer and subsequently how to create them by electron beam lithograph. Moreover, this study explores the methods by which these structures are measured and evaluated. These methods are used to measure and evaulate binary periodic gratings and thanks to obtained data it can be determined the dependence of the depth of grating on its period. The study also contains measurement of diffraction efficiency on manufactured gratings and comparison of the dependence of its diffraction efficiency on the depth of grating.
|
|
|
Plasmonic structures fabricated by e-beam lithography
Šimík, Marcel ; Urbánek,, Michal (referee) ; Krátký, Stanislav (advisor)
The presented study deals with the process of the formation of plasmonic structures using electron beam lithography. The main aim of this work is to create a structure published in NatureNanotechnology using PMMA resist. It has been created several variants of these structures with different exposure doses and shapes in order to determine the best option. From these variants it is concluded which one is the most effective by using optical and electron microscopy. With this information are created and evaluated large-scale exposure.
|
|
|
The contrast curves determination for e-beam writer with Gaussian beam
Šuľan, Dušan ; Horáček,, Miroslav (referee) ; Krátký, Stanislav (advisor)
This work deals with technological process of structures creating by using of electron beam lithography. The main focus of the work is contrast curves of PMMA resist determination for electron beam lithography system Vistec EBPG 5000+ ES. Contrast curves are determined for different developers, developing times and the depths of resist. Sensitivity and the contrast of resist are determined from these contrast curves for each resist-developer system. Sensitivity curves are applied to the proximity effect correction on real structures, specifically the periodic diffraction gratings and then they are evaluated.
|
|
|
Electrostatic Deflection and Correction Systems
Badin, Viktor ; Oral, Martin (referee) ; Zlámal, Jakub (advisor)
The aim of this master's thesis is to explore and study dynamic aberration correction options in electron-beam lithography systems. For the calculations, the thesis uses the optical column of the BS600 electron-beam writer. The thesis focuses on corrections of the third order field curvature, astigmatism, and distortion aberrations of the currently used magnetic deflection system and a newly designed electrostatic deflection system. The parameters of the two deflection and correction systems were compared.
|
|
|
Magnetic vortex based memory device
Dhankhar, Meena ; Hrabec,, Aleš (referee) ; Veis,, Martin (referee) ; Urbánek, Michal (advisor)
Magnetické vortexy jsou charakterizovány směrem stáčení magnetizace a polarizací vortexového jádra, přičemž každá z těchto veličin nabývá dvojice stavů. Ve výsledku jsou tak k dispozici čtyři možné stabilní konfigurace, čehož může být využito v multibitových paměťových zařízeních. Tato dizertační práce se zabývá selektivním zápisem stavů magnetického vortexu v magnetickém disku pulzem elektrického proudu stejně jako jejich následným elektrickým čtením. Před samotnou realizací elektrických měření byla provedena statická měření přepínání stavů vortexu pomocí různých proudových pulzů v kombinaci s technikami MFM a následně MTXM. Následně byl realizován dynamický odečet stavu vortexu kompletně založený na elektrických měřeních. Ovládání cirkulace vortexu je založeno na geometrické asymetrii vytvořené oříznutím magnetického disku a vytvořením fazety. Plochý okraj disku definuje preferenční smysl stáčení cirkulace během procesu nukleace vortexu. Řízení polarity se obvykle provádí ve dvou krocích. V prvním kroku, homogenně magnetizovaná vrstva s kolmou magnetickou anizotropií umístěná na dně disku definuje výchozí polaritu vortexu v době nukleace. V druhém kroku, je-li to nutné, je polarita vortexu přepnuta pomocí rychlého proudového pulzu. Proto je možné nastavit požadovaný stav cirkulace vysláním nanosekundového pulsu s nízkou amplitudou, následované nastavením polarity pikosekundovým pulsem s vysokou amplitudou. Stavy vortexů jsou pak detekovány elektrickou spektroskopií prostřednictvím anizotropní magnetorezistence. Vzorky pro všechna statická a dynamická měření byly připraveny pomocí elektronové litografie v kombinaci s lift-off procesem.
|
|
|
Magnetic vortex based memory device
Dhankhar, Meena ; Hrabec,, Aleš (referee) ; Veis,, Martin (referee) ; Urbánek, Michal (advisor)
Magnetické vortexy jsou charakterizovány směrem stáčení magnetizace a polarizací vortexového jádra, přičemž každá z těchto veličin nabývá dvojice stavů. Ve výsledku jsou tak k dispozici čtyři možné stabilní konfigurace, čehož může být využito v multibitových paměťových zařízeních. Tato dizertační práce se zabývá selektivním zápisem stavů magnetického vortexu v magnetickém disku pulzem elektrického proudu stejně jako jejich následným elektrickým čtením. Před samotnou realizací elektrických měření byla provedena statická měření přepínání stavů vortexu pomocí různých proudových pulzů v kombinaci s technikami MFM a následně MTXM. Následně byl realizován dynamický odečet stavu vortexu kompletně založený na elektrických měřeních. Ovládání cirkulace vortexu je založeno na geometrické asymetrii vytvořené oříznutím magnetického disku a vytvořením fazety. Plochý okraj disku definuje preferenční smysl stáčení cirkulace během procesu nukleace vortexu. Řízení polarity se obvykle provádí ve dvou krocích. V prvním kroku, homogenně magnetizovaná vrstva s kolmou magnetickou anizotropií umístěná na dně disku definuje výchozí polaritu vortexu v době nukleace. V druhém kroku, je-li to nutné, je polarita vortexu přepnuta pomocí rychlého proudového pulzu. Proto je možné nastavit požadovaný stav cirkulace vysláním nanosekundového pulsu s nízkou amplitudou, následované nastavením polarity pikosekundovým pulsem s vysokou amplitudou. Stavy vortexů jsou pak detekovány elektrickou spektroskopií prostřednictvím anizotropní magnetorezistence. Vzorky pro všechna statická a dynamická měření byly připraveny pomocí elektronové litografie v kombinaci s lift-off procesem.
|
|
| |
|
|
The contrast curves determination for e-beam writer with Gaussian beam
Šuľan, Dušan ; Horáček,, Miroslav (referee) ; Krátký, Stanislav (advisor)
This work deals with technological process of structures creating by using of electron beam lithography. The main focus of the work is contrast curves of PMMA resist determination for electron beam lithography system Vistec EBPG 5000+ ES. Contrast curves are determined for different developers, developing times and the depths of resist. Sensitivity and the contrast of resist are determined from these contrast curves for each resist-developer system. Sensitivity curves are applied to the proximity effect correction on real structures, specifically the periodic diffraction gratings and then they are evaluated.
|
|
|
Plasmonic structures fabricated by e-beam lithography
Šimík, Marcel ; Urbánek,, Michal (referee) ; Krátký, Stanislav (advisor)
The presented study deals with the process of the formation of plasmonic structures using electron beam lithography. The main aim of this work is to create a structure published in NatureNanotechnology using PMMA resist. It has been created several variants of these structures with different exposure doses and shapes in order to determine the best option. From these variants it is concluded which one is the most effective by using optical and electron microscopy. With this information are created and evaluated large-scale exposure.
|
|
|
Properties study of periodic gratings prepared by electron-beam lithography
Krátký, Stanislav ; Opletal, Petr (referee) ; Matějka, Milan (advisor)
This study examines the process of the relief periodic structures creation by way of electron beam lithography. It describes how to design these structures by means of a computer and subsequently how to create them by electron beam lithograph. Moreover, this study explores the methods by which these structures are measured and evaluated. These methods are used to measure and evaulate binary periodic gratings and thanks to obtained data it can be determined the dependence of the depth of grating on its period. The study also contains measurement of diffraction efficiency on manufactured gratings and comparison of the dependence of its diffraction efficiency on the depth of grating.
|
guest ::
